在真空镀膜中`AR表示什么` 真空镀膜：一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀。
氧化铟锡靶材是什么？ 氧化铟锡靶材是三氧化二铟和二氧化锡的混合物，是ito？？薄膜制备的重要原料，ito薄膜由于对可见光透
ito靶材是什么？分不清ito靶材和ito薄膜？磁控溅射是生产哪个？ITO靶材就是氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加工成型，再高温气氛烧结(1600度，通。
靶材的作用和用途？ 1、微电子领域在所有2113应用产业中，半导体产5261业对靶材溅射薄膜的品质要求是最4102苛刻的。如今165312英寸（300衄口）的硅晶片已制造出来．而互连线的宽度却在减小。硅片制造商对靶材的要求是大尺寸、高纯度、低偏析和细晶粒，这就要求所制造的靶材具有更好的微观结构。2、显示器用平面显示器（FPD)这些年来大幅冲击以阴极射线管(CRT)为主的电脑显示器及电视机市场，亦将带动ITO靶材的技术与市场需求。如今的iTO靶材有两种．一种是采用纳米状态的氧化铟和氧化锡粉混合后烧结，一种是采用铟锡合金靶材。3、存储用在储存技术方面，高密度、大容量硬盘的发展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，CoF~Cu多层复合膜是如今应用广泛的巨磁阻薄膜结构。磁光盘需要的TbFeCo合金靶材还在进一步发展，用它制造的磁光盘具有存储容量大，寿命长，可反复无接触擦写的特点。扩展资料：靶材的发展：各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成电路(VLSI)、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代以来，溅射靶材及溅射技术的同步发展，极大地满足了各种新型电子元器件发展的需求。例如，在半导体集成电路制造过程中，以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝膜。
金属铟中毒是怎么回事？ 会导致铟中毒，铟中毒为慢性中毒，会严重损坏肺，会导致呼吸困难、喘不过气来，而且铟中毒后肺部功能很难恢复，会不断地自我排出蛋白质。较为严重的每隔一个月就要到进行一次全肺灌洗，否则就有生命危险。反正铟比铅还毒。美国和英国已公布了铟的职业接触限值均为0.1 mg/m3，而这两个国家铅的标准为0.15 mg/m3。说明铟的毒性不可轻视。了解更多有色金属行情资讯，有色金属价格行情及寻找各类金属供求货源；微信公众号搜索“针网”随时了解各类金属行情；每天更新大量有色金属供求信息；
