光刻胶概念23日盘中发力拉升，截至发稿，捷捷微电大涨逾17%，高盟新材涨继14%，格林达涨停，新莱应材涨近9%，飞凯材料、扬帆新材涨幅超7%。
消息面上，近日，国家发改委等四部门联合印发的《关于扩大战略性新兴产业投资培育壮大新增长点增长极的指导意见》提出了扩大战略性新兴产业投资、培育壮大新增长点增长极的20个重点方向和支持政策，推动战略性新兴产业高质量发展。
《指导意见》提出，要加大5G建设投资；加快关键芯片等核心技术攻关，大力推动重点工程和重大项目建设；加快在光刻胶、高纯靶材等领域实现突破；实施新材料创新发展行动计划，提升稀土等特色资源在开采、冶炼、深加工等环节的技术水平，加快拓展石墨烯、纳米材料等在光电子、航空装备、新能源、生物医药等领域的应用等。
芯片制造是我国最大的短板，直接制约着中国高科技企业的持续健康发展，其中光刻机作为制造芯片的核心装备，重要程度不言而喻。
方正证券认为，光刻机国产替代将迎来新的曙光，尤其是IC前道制造领域，将初步打破国外巨头完全垄断的局面，实现从0到1的突破。建议关注国产替代的光刻产业链，一是光刻机核心组件：负责整体集成的上海微电子、负责光源系统的科益虹源，负责物镜系统的国望光学，负责曝光光学系统的国科精密，负责双工作台的华卓精科，负责浸没系统的启尔机电；二是光刻配套设施：包括光刻胶，光刻气体，光掩模版，光刻机缺陷检测设备，涂胶显影设备等。
